ਮੈਜਿਕ ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਸਮੱਗਰੀ

  ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਨਿਰਮਾਣ ਅਤੇ ਸਤਹ ਫਿਨਿਸ਼ਿੰਗ ਦੀ ਦੁਨੀਆ ਵਿੱਚ,ਸੀਰੀਅਮ ਆਕਸਾਈਡਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਪਾਊਡਰ ਇੱਕ ਗੇਮ-ਬਦਲਣ ਵਾਲੀ ਸਮੱਗਰੀ ਵਜੋਂ ਉਭਰਿਆ ਹੈ। ਇਸ ਦੀਆਂ ਵਿਲੱਖਣ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਇਸਨੂੰ ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਐਪਲੀਕੇਸ਼ਨਾਂ ਦੀ ਇੱਕ ਵਿਸ਼ਾਲ ਸ਼੍ਰੇਣੀ ਵਿੱਚ ਇੱਕ ਜ਼ਰੂਰੀ ਹਿੱਸਾ ਬਣਾਉਂਦੀਆਂ ਹਨ, ਆਪਟੀਕਲ ਲੈਂਸਾਂ ਦੀਆਂ ਨਾਜ਼ੁਕ ਸਤਹਾਂ ਤੋਂ ਲੈ ਕੇ ਸੈਮੀਕੰਡਕਟਰ ਨਿਰਮਾਣ ਵਿੱਚ ਉੱਚ-ਤਕਨੀਕੀ ਵੇਫਰਾਂ ਤੱਕ।

  ਸੀਰੀਅਮ ਆਕਸਾਈਡ ਦੀ ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਵਿਧੀ ਰਸਾਇਣਕ ਅਤੇ ਮਕੈਨੀਕਲ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆਵਾਂ ਦਾ ਇੱਕ ਦਿਲਚਸਪ ਮਿਸ਼ਰਣ ਹੈ। ਰਸਾਇਣਕ ਤੌਰ 'ਤੇ,ਸੀਰੀਅਮ ਆਕਸਾਈਡ (ਸੀਈਓ₂) ਸੀਰੀਅਮ ਤੱਤ ਦੀਆਂ ਪਰਿਵਰਤਨਸ਼ੀਲ ਸੰਯੋਜਕ ਅਵਸਥਾਵਾਂ ਦਾ ਫਾਇਦਾ ਉਠਾਉਂਦਾ ਹੈ। ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਦੌਰਾਨ ਪਾਣੀ ਦੀ ਮੌਜੂਦਗੀ ਵਿੱਚ, ਕੱਚ ਵਰਗੀਆਂ ਸਮੱਗਰੀਆਂ ਦੀ ਸਤ੍ਹਾ (ਜੋ ਕਿ ਮੁੱਖ ਤੌਰ 'ਤੇ ਸਿਲਿਕਾ, SiO ਤੋਂ ਬਣੀ ਹੁੰਦੀ ਹੈ)₂) ਹਾਈਡ੍ਰੋਕਸਾਈਲੇਟਡ ਹੋ ਜਾਂਦਾ ਹੈ।ਸੀਈਓ₂ਫਿਰ ਹਾਈਡ੍ਰੋਕਸਾਈਲੇਟਿਡ ਸਿਲਿਕਾ ਸਤਹ ਨਾਲ ਪ੍ਰਤੀਕਿਰਿਆ ਕਰਦਾ ਹੈ। ਇਹ ਪਹਿਲਾਂ ਇੱਕ Ce – O – Si ਬਾਂਡ ਬਣਾਉਂਦਾ ਹੈ। ਕੱਚ ਦੀ ਸਤਹ ਦੀ ਹਾਈਡ੍ਰੋਲਾਇਟਿਕ ਪ੍ਰਕਿਰਤੀ ਦੇ ਕਾਰਨ, ਇਹ ਅੱਗੇ ਇੱਕ Ce – O – Si(OH) ਵਿੱਚ ਬਦਲ ਜਾਂਦਾ ਹੈ।₃ਬਾਂਡ।

   ਮਸ਼ੀਨੀ ਤੌਰ 'ਤੇ, ਸਖ਼ਤ, ਬਰੀਕ-ਦਾਣੇਦਾਰਸੀਰੀਅਮ ਆਕਸਾਈਡਕਣ ਛੋਟੇ-ਛੋਟੇ ਘਸਾਉਣ ਵਾਲੇ ਪਦਾਰਥਾਂ ਵਾਂਗ ਕੰਮ ਕਰਦੇ ਹਨ। ਉਹ ਸਮੱਗਰੀ ਦੀ ਸਤ੍ਹਾ 'ਤੇ ਸੂਖਮ ਬੇਨਿਯਮੀਆਂ ਨੂੰ ਭੌਤਿਕ ਤੌਰ 'ਤੇ ਖੁਰਚਦੇ ਹਨ। ਜਿਵੇਂ ਹੀ ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਪੈਡ ਦਬਾਅ ਹੇਠ ਸਤ੍ਹਾ 'ਤੇ ਘੁੰਮਦਾ ਹੈ,ਸੀਰੀਅਮ ਆਕਸਾਈਡਕਣ ਉੱਚੇ ਬਿੰਦੂਆਂ ਨੂੰ ਪੀਸਦੇ ਹਨ, ਹੌਲੀ-ਹੌਲੀ ਸਤ੍ਹਾ ਨੂੰ ਸਮਤਲ ਕਰਦੇ ਹਨ। ਮਕੈਨੀਕਲ ਬਲ ਕੱਚ ਦੇ ਢਾਂਚੇ ਵਿੱਚ Si – O – Si ਬਾਂਡਾਂ ਨੂੰ ਤੋੜਨ ਵਿੱਚ ਵੀ ਭੂਮਿਕਾ ਨਿਭਾਉਂਦਾ ਹੈ, ਜਿਸ ਨਾਲ ਛੋਟੇ ਟੁਕੜਿਆਂ ਦੇ ਰੂਪ ਵਿੱਚ ਸਮੱਗਰੀ ਨੂੰ ਹਟਾਉਣ ਵਿੱਚ ਮਦਦ ਮਿਲਦੀ ਹੈ।ਦੀਆਂ ਸ਼ਾਨਦਾਰ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਵਿੱਚੋਂ ਇੱਕਸੀਰੀਅਮ ਆਕਸਾਈਡਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਇਸਦੀ ਸਵੈ-ਨਿਰਧਾਰਤ ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਦਰ ਦੀ ਯੋਗਤਾ ਹੈ। ਜਦੋਂ ਸਮੱਗਰੀ ਦੀ ਸਤ੍ਹਾ ਖੁਰਦਰੀ ਹੁੰਦੀ ਹੈ, ਤਾਂਸੀਰੀਅਮ ਆਕਸਾਈਡਕਣ ਹਮਲਾਵਰ ਢੰਗ ਨਾਲ ਸਮੱਗਰੀ ਨੂੰ ਮੁਕਾਬਲਤਨ ਉੱਚ ਦਰ 'ਤੇ ਹਟਾਉਂਦੇ ਹਨ। ਜਿਵੇਂ-ਜਿਵੇਂ ਸਤ੍ਹਾ ਨਿਰਵਿਘਨ ਹੁੰਦੀ ਜਾਂਦੀ ਹੈ, ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਦਰ ਨੂੰ ਐਡਜਸਟ ਕੀਤਾ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ, ਅਤੇ ਕੁਝ ਮਾਮਲਿਆਂ ਵਿੱਚ, "ਸਵੈ-ਰੋਕਣ" ਸਥਿਤੀ ਤੱਕ ਵੀ ਪਹੁੰਚ ਜਾਂਦਾ ਹੈ। ਇਹ ਸੀਰੀਅਮ ਆਕਸਾਈਡ, ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਪੈਡ, ਅਤੇ ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਸਲਰੀ ਵਿੱਚ ਐਡਿਟਿਵਜ਼ ਵਿਚਕਾਰ ਪਰਸਪਰ ਪ੍ਰਭਾਵ ਦੇ ਕਾਰਨ ਹੁੰਦਾ ਹੈ। ਐਡਿਟਿਵਜ਼ ਸਤਹ ਰਸਾਇਣ ਵਿਗਿਆਨ ਅਤੇ ਵਿਚਕਾਰ ਅਡੈਸ਼ਨ ਨੂੰ ਸੋਧ ਸਕਦੇ ਹਨ।ਸੀਰੀਅਮ ਆਕਸਾਈਡਕਣ ਅਤੇ ਸਮੱਗਰੀ, ਪਾਲਿਸ਼ਿੰਗ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਨੂੰ ਪ੍ਰਭਾਵਸ਼ਾਲੀ ਢੰਗ ਨਾਲ ਕੰਟਰੋਲ ਕਰਦੇ ਹਨ।